2020三星vd光学膜唯一供应商(2020三星vd光学膜唯一供应商)

掩模薄膜/薄膜是极紫外（EUV）光刻工艺的关键组成部分。它是指在掩膜版上展开一层薄膜，然后用机器绘制电路，将其压印在晶圆上。目的是为了保护光掩模免受空气中细小灰尘或挥发性气体的污染，减少光掩模损坏，这一领域目前仍由荷兰ASML和日本三井化学占据主导地位，而韩国SS Tech等后来者则处于领先地位。也是主要供应商之一。

韩媒ETNews报道称，三星电子已独立开发出透光率高达88%的EUV薄膜，这将有助于供应链多元化和稳定。经证实，这款透光率高达88%的EUV薄膜产品已经可以量产。

IT之家了解到，三星电子在去年的2021 Foundry Forum 上宣布了自己开发的EUV 薄膜。当时，他们还公开宣布已经开发出透光率82%的薄膜技术，并宣布到2022年将拥有透光率88%的产品生产体系。

值得一提的是，韩国公司SS Tech于2021年成功开发出透光率达到90%的半导体EUV薄膜，成为除ASML之外另一家成功开发出透光率超过90%的EUV薄膜的公司。公司.据称三星对此的要求是将该比例提高到94%。

业内预测，今年EUV薄膜的需求将比去年增长近三倍，韩国国产EUV薄膜最早将在1到2年内实现商业化。此外，台积电正在加快自有产品的研发，确保EUV薄膜可控。